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固体レーザー

固体レーザー

  • 1570nm OPO レーザー-10mJ-20

    1570nm OPO レーザー-10mJ-20

    これは、波長 1570nm の目に安全なパッシブ Q スイッチ OPO レーザーです。1~20hz (調整可能)pウルスr競争r食べたと≤10ミリラジアン発散角.また、小型・軽量でレーザー光源としても最適です。 での長距離測距高い周波数（20Hz）。

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  • 1570nm OPO レーザー-80mJ-20

    1570nm OPO レーザー-80mJ-20

    これは、内部に駆動回路制御システムを備えた電気光学 Q スイッチ OPO レーザーで、波長 1570nm、パルス繰り返し率 1 ～ 20hz (調整可能)、ピーク電力 80mJ 以上、発散角 6mrad 以下です。また、高周波(20Hz)と光電対策技術により理想的な遠距離光源となる小型・軽量レーザーです。

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  • 1535nm エルビウムガラスレーザー -100

    1535nm エルビウムガラスレーザー -100

     パルスエネルギー(最小/標準):132μJ/134μJ

    パルス繰り返し率:1～20Hz

    ビーム発散:＜10mrad

    重さ：6g

    GT-1535-100 は、独立した知的財産権を持つ Erbium Tech が開発したエルビウム レーザー ガラスと半導体ポンプ ソースを統合しています。

    これは、大気窓内で 1535nm のアイセーフ発光波長を備えたアイセーフ レーザーであり、レーザー パルスのビーム品質が高く、アイセーフ レーザー測距に適しています。

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  • 1535nm エルビウムガラスレーザー -200

    1535nm エルビウムガラスレーザー -200

    パルスエネルギー(最小/標準):200μJ/240μJ

    パルス繰り返し率:1～10Hz

    ビーム発散:＜10mrad

    重さ：6g

    GT-1535-200 は、独立した知的財産権を持つ Erbium Tech によって開発されたエルビウム レーザー ガラスと半導体ポンプ ソースが統合されています。

    これは、大気窓内で 1535nm のアイセーフ発光波長を備えたアイセーフ レーザーであり、レーザー パルスのビーム品質が高く、アイセーフ レーザー測距に適しています。

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  • 1535nm エルビウム ガラス レーザー-300

    1535nm エルビウム ガラス レーザー-300

     パルスエネルギー(最小/標準):300μJ/320μJ

    パルス繰り返し率:1～20Hz

    ビーム発散:＜10mrad

    重さ：6g

    GT-1535-300 は、独立した知的財産権を持つ Erbium Tech によって開発されたエルビウム レーザー ガラスと半導体ポンプ ソースが統合されています。

    これは、大気窓内で 1535nm のアイセーフ発光波長を備えたアイセーフ レーザーであり、レーザー パルスのビーム品質が高く、アイセーフ レーザー測距に適しています。

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  • 1535nm エルビウム ガラス レーザー - 400

    1535nm エルビウム ガラス レーザー - 400

    パルスエネルギー(最小/標準):400μJ/420μJ

    パルス繰り返し率:1～20Hz

    ビーム発散:＜10mrad

    重さ：10g

    GT-1535-400 は、独立した知的財産権を持つ Erbium Tech が開発したエルビウム レーザー ガラスと半導体ポンプ ソースを統合しています。

    これは、大気窓内で 1535nm のアイセーフ発光波長を備えたアイセーフ レーザーであり、レーザー パルスのビーム品質が高く、アイセーフ レーザー測距に適しています。

     

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  • 1535nm エルビウムガラスレーザー -500

    1535nm エルビウムガラスレーザー -500

    パルスエネルギー(最小/標準):480μJ/510μJ

    パルス繰り返し率:1～10Hz

    ビーム発散:＜10mrad

    重さ：12g

    GT-1535-500 は、独立した知的財産権を持つ Erbium Tech によって開発されたエルビウム レーザー ガラスと半導体ポンプ ソースが統合されています。

    これは、大気窓内で 1535nm のアイセーフ発光波長を備えたアイセーフ レーザーであり、レーザー パルスのビーム品質が高く、アイセーフ レーザー測距に適しています。

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  • 1535nmエルビウムガラスレーザー-45μJ

    1535nmエルビウムガラスレーザー-45μJ

    パルスエネルギー(最小/標準):44μJ/45μJ

    パルス繰り返し率:1kHz

    ビーム発散:＜15mrad

    重さ：7g

    GT-1535-45 は、独立した知的財産権を持つ Erbium Tech が開発したエルビウム レーザー ガラスと半導体ポンプ ソースを統合しています。

    これは、大気窓内で 1535nm のアイセーフ発光波長を備えたアイセーフ レーザーであり、レーザー パルスのビーム品質が高く、アイセーフ レーザー測距に適しています。

     

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  • 1535nmエルビウムガラスレーザー-2mJ

    1535nmエルビウムガラスレーザー-2mJ

     パルスエネルギー(最小/標準):2mJ/2.5mJ

    パルス繰り返し率:5Hz

    ビーム発散:4mrad

    重さ：120g

    GT-1535-2MJ は、独立した知的財産権を持つ Erbium Tech によって開発されたエルビウム レーザー ガラスと半導体ポンプ ソースが統合されています。

    これは、大気窓内で 1535nm のアイセーフ発光波長を備えたアイセーフ レーザーであり、レーザー パルスのビーム品質が高く、アイセーフ レーザー測距に適しています。

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  • 355nm UVレーザー-50W

    355nm UVレーザー-50W

    パッシブ Q スイッチ パルス UV レーザー

    ● リピート率調整可能

    ● 外部制御可能 

    使いやすくメンテナンスフリー

    長寿命運転

    高効率

    高信頼性

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  • 473nm 青色光レーザー-200

    473nm 青色光レーザー-200

    コンパクトサイズ

    コリメートされたストレートビーム

    調整可能なフォーカス

    使いやすくメンテナンスフリー

    長寿命運転

    高効率

    高信頼性

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  • 473nm 青色光レーザー-600

    473nm 青色光レーザー-600

    最大600mWの高出力青色レーザー

    使いやすくメンテナンスフリー

    長寿命運転

    高効率

    高信頼性

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